Título
Analysis of boundary layer on the CVD process
Autor
RAUL JUNIOR SANDOVAL GOMEZ
Nivel de Acceso
Acceso Abierto
Materias
Capa límite - ([ITP Journal (en trámite) vol. 1 (1) (2015)]) Cinética - ([ITP Journal (en trámite) vol. 1 (1) (2015)]) CVD - ([ITP Journal (en trámite) vol. 1 (1) (2015)]) De flujo laminar - ([ITP Journal (en trámite) vol. 1 (1) (2015)]) Reacciones - ([ITP Journal (en trámite) vol. 1 (1) (2015)]) CIENCIAS SOCIALES - (CTI)
Resumen o descripción
"Este artículo es un análisis de la cinética de las reacciones que ocurren dentro de un reactor operado por el proceso de deposición química de vapor (CVD), aplicado a películas duras de titanio (Ti) y nitruro de titanio (TiN). El análisis se llevó a cabo a partir de cuatro reacciones químicas diferentes. Observación mostró los elementos que lo componen, así como los productos y subproductos obtenidos como resultado de la aplicación de diferentes rangos de velocidades de temperatura y gas. Por otro lado, hay un análisis matemático con el fin de establecer las variables que afectan el espesor de la capa límite y cómo esto afecta directamente a la deposición de reactivos adecuados transportados a través del gas, la obtención de una ecuación que el número de Reynolds para el flujo laminar."
Editor
Institute of Telecommunications Professionals
Fecha de publicación
2015
Tipo de publicación
Artículo
Recurso de información
Formato
application/pdf
Fuente
ITP Journal (en trámite) vol. 1 (1) (2015)
Idioma
Inglés
Repositorio Orígen
REPOSITORIO UPIICSA IPN
Descargas
1